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中电科装备子集团怎么样(中电科45所)

21财经网 2021-07-08 11:09:42

对全世界任何一个国家来说,荷兰ASML都是众星捧月的那个“月亮”,他一马当先,其他人都难以望其项背。

日本人曾经研究过ASML,他们发现,ASML的一台EUV光刻机有超过10万个零件,其中90%的零部件都依赖外购。

有美国Cymer的光源(2013年被ASML收购),有德国蔡司的顶级镜头,有英特尔的技术分配,有瑞典的轴承,有法国的阀件,等等等等……

ASML作为集大成者,自己需要做的主要是设计和组装,不需要管工厂生产。

换句话说,ASML作为顶级光刻机的背后,是全世界多个国家的顶尖技术的通力配合,整个人类上百年科技的结晶,更是全球化的产物。

如果中国的光刻机击败了ASML,不是中国单挑赢了荷兰,而是中国单挑赢了全世界。

这难度堪比登天。

中国如果不做自己的光刻机,类似买一台机器三年都到不了货的事情还会无数次地发生。

国内光刻机做得最好的,是上海微电子装备公司(SMEE),它可以做到的最精密的加工制程是90nm的光刻机。

90nm的能力,已经足够驱动基础的国防和工业。

就算所有进口光刻机都瞬间停止工作,中国也不是没有芯片可用。

但,它能造出来的芯片,也就相当于2004年奔腾四处理器的水平。

这之间有十几年的差距。

我国入局半导体行业,起步其实并不算太晚,可惜的是中途放弃过。

1956年,我国第一只晶体三极管诞生。此时距离贝尔实验室研发出的世界第一支点接触三极管,过去了9年。

我国最早的光刻机GK-3型半自动光刻机,诞生于1977年。这是一台接触式光刻机。

GK-3

而美国在20世纪50年代就已经拥有了接触式光刻机,期间相差了二十几年。

1978年,1445所在GK-3的基础上开发了GK-4,把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米,自动化程度有所提高,但依旧是接触式光刻机。

同一年,GCA已经推出了真正现代意义的自动化步进式光刻机。

但之间的差距,开始逐渐减小:

1982年,科学院109厂的KHA-75-1光刻机,保守估计跟当时最先进的佳能相比,最多也就不到4年的差距。

1985年,机电部45所研制出了分步光刻机样机。这应该是中国第一台分步投影式光刻机。中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。

当时中国的半导体产业虽然没有超越当时世界最先水平,但是差距并不大。

以一个国家的实力,去追赶整个西方的速度!

然而,到了80年代末期,在整个大环境都是“造不如买”的思想下,中国光刻机一度被放弃了,自主研发停滞不前。

直到90年代末期,我们意识到了问题所在,重新把光刻机捡了起来,但已经落后了世界一大截了。

中国光刻机领域的代表企业,是前面说过的上海微电子。

2002年,上海微电子装备有限公司承担了“十五”光刻机攻关项目,中电科45所把此前从事分步投影光刻机的团队迁到了上海,参与这个项目。

2016年,上海微电子已经量产90、110和280三种光刻机,其中性能最好的是90nm光刻机。

荷兰的ASML,现在还牢牢占据高端市场,一骑绝尘;日本的尼康、佳能在终端市场,半死不活;上海微电子的光刻机,顶多占据了低端市场。在这三家的面前,根本不够看。

ASML曾放言称,就算给了一台机器,我们也很难逆研发出来整个机器。

这话不假。

这颗“人类工业皇冠上的明珠”要造出来,绝非一日之功。

制造业有制造业的规律,科研需要的是一步一个脚印的踏实,着急也没用,一口吃不成胖子。

#我要上微头条#

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